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ASML 公佈 Hyper NA EUV 光刻機,有能力生產 0.2nm!!!

ASML 去年底向 Intel 交付了全球首台 High NA EUV 極紫外光刻機,並且目前正在開展對 Hyper NA EUV 光刻機的研究工作,這一新型光刻機有望實現半導體工藝推進到 0.2nm...