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無需光刻機直接蝕刻 5nm 晶片!!!! 中國科技公司申請製造專利

中國的一家科技公司對外公開了申請的「5納米芯片製造的直接蝕刻方法」專利。該發明包含晶片設計及製造等方面。其專利的特殊之處在於,它無需使用 EUV 光刻機或 DUV 光刻機,也無需經過光刻過程,...

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