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ASML 公佈比 EUV 更強的 Hyper NA EUV,光刻機藍圖,孔徑0.75+5nm單次曝光

近期,ASML 與光學合作夥伴蔡司於《微納米圖案化、材料與計量期刊》發表同行評審論文,公布目前最強光刻機 High NA EUV 迭代 —— Hyper NA EUV 光刻機。論文表示,該設備預計約 ...