在國家會展中心（上海）舉行的第二十六屆中國國際工業博覽會中，朗道燧岩首次公開發布一台 EUV 光源系統樣機。
朗道燧岩此次展示的是進度最靠前的國產 EUV 光源樣機。EUV 光源被譽為高端光刻機的「心臟」，高度的國產化代表著國產 EUV 光源領域有實質性的突破，為從實驗室樣機邁向產業化奠定基礎。
一直以來，極紫外光源是 7nm 及以下先進製程晶片製造的三大核心零部件之一，受到海外技術壟斷和禁運限制，嚴重制約中國高端晶片生產技術環節，無法自主可控。
朗道燧岩現場工作人員表示，此次展示的 EUV 光源系統樣機國產化率達 90%，絕大多數的核心零部件實現自主研發，技術路線與國際領先廠商一致，可以用於晶片的曝光測試。雖然已經製造出樣機，但距離最終量產還需要 3 至 5 年時間。
規格參數方面，朗道燧岩官網顯示，低功率 EUV 光源系統 FlintNano LPP-OXXO 已處於產品化階段，驅動激光功率 1,000W，激光頻率 1 至 20kHz，轉換效率大於 2%，EUV 能量大於 15W，設備可以持續工作時間超過 100 小時，等離子體尺寸 60 微米。高功率極紫外光源 FlintMicro-LPP 系列則是完成了原理論證。
朗道科技主要從事半導體製造專用設備的研發、生產與相關技術服務。創始人王豪博士團隊以清華大學氣體放電等離子體實驗室的研發成果作為基礎，主要方向是 LPP-EUV 光刻光源技術，解決高端裝備領域缺少的問題。
朗道科技成立於 2024 年，2025 年 10 月獲得張江高科旗下燧玥創投的天使輪融資，2026 年 1 月再獲得天使+輪融資。2026 年 7 月完成 A 輪融資，投資方有沃衍資本、中芯聚源等。
