光刻機是目前世界上最複雜的精密設備之一，晶片製造的核心設備之一，除了可以用來生產晶片，還有用於封裝的光刻機、LED 製造領域的投影光刻機。光刻機對於現今的科技發展有著非常重要的作用。
作為全球唯一能生產 EUV 光刻機的公司——荷蘭 ASML 公司。去年共銷售26台 EUV 光刻機，用於台積電、Samsung 的 7nm 和 5nm 工藝製造。現在 ASML 銷售的光刻機主要為 NXE:3400B 和改進型的 NXE:3400C，結構上相似。差別在於 NXE:3400C 採用模塊化設計，將48小時縮短到8-10小時；NXE:3400C 的產量也從 125WPH 提升到了 175WPH。實際上，這兩款 EUV 光刻機屬於第一代，物鏡系統的 NA（數值孔徑）為0.33。
在光刻機的分辨率公式中，NA 數字越大，代表光刻機精度更高。 ASML現在在研發新一代 EUV 光刻機 EXE:5000 系列，NA 為 0.55。主要合作夥伴有 Carl Zeiss AG 和 IMEC 比利時微電子中心。
據悉，EXE:5000 系列 EUV 光刻機主要面向 3nm 時代，要知道現在台積電和Samsung的製程工藝路線圖已經到了3nm，要想讓技術盡快落地到實際，EXE:5000 系列 EUV 光刻機的研發就是最為主要的。
根據 ASML 的爆料，EXE:5000 系列 EUV 光刻機最快會於 2021 年面世，經過幾年的生產，最快可能會於 2023年或者 2024年上市。
