光刻機是製造晶片的核心裝備，而光刻機市場幾乎被荷蘭的 ASML 、日本的 Nikon 和 Canon 這3家廠所瓜分，其中身為後起之秀的 ASML 的光刻機技術最為先進。據報導稱， ASML 光刻機市佔率高達 89% ，其餘兩家的份額分別是 8%和3% ，加起來僅有11% ，而目前最先進的在 EUV 光刻機市場中， ASML 更是獨家。而近日有消息稱 ASML 有望向中國出口光刻機。
一台光刻機由上萬個部件組成，而一台光刻機的售價可高至過億美元。目前的光刻機主要分為兩種 DUV 光刻機和 EUV 光刻機，其中 EUV 光刻機的技術最為先進，是突破 5nm 晶片製程節點重要工具。
10月14日， ASML CFO Roger Dassen 對媒體表示， ASML 可以從荷蘭向中國出口 DUV （深紫外）光刻機，無需美國許可。而作為更先進的 EUV （極紫外）光刻機無法出口中國。當中原因是相關技術或零件是從美國出口的，需要美國的批准。
對於此次 DUV 光刻機有望出口中國有這2大原因：
1 、中國市場需求巨大，據海關總署數據顯示，今年1-8月，中國累計進口了3334.6億美元的集成電路，同比大增22.5% 。如此龐大的市場能為公司帶來更多的收益。
2 、中國目前加大了對半導體行業的投入，光刻機工藝已經突破到了 28nm 工藝了，再中國市場進行封鎖和限制沒有多大意義。
不過中國亦不要太開心，明眼人都知道 DUV 光刻機在這年代中是生產不出 14nm 或以上的晶片(準確應該說液浸式 DUV 經過多重曝光後極限是可以生產出 7nm 晶片，但良率低而且不穩定)，要突破 14nm 就必須 EUV 光刻機，如果 EUV 光刻機不給予進口等同只可以生產 14nm 或以下的晶片。另外在生產晶片時所需要的物料仍受美國技術限制，沒有這些物料供應亦生產不出 40nm 以上的晶片，所以中國最強的晶片生產廠中芯國際亦表示過如果完全不使用美國技術，他們現時只能生產到 40nm 水平。
