眾所周知晶片技術的越來越先進，那麼伴隨的耗電量也肯定是會不斷增加，而 TSMC 有著最大、最強以及技術最先進的的 EUV 光刻機，近年來也包攬了全球眾多晶片代工訂單，但有消息指出要求晶片精度更高的訂單越來越多，產能反而不夠用了。有消息稱 TSMC 由於先進工藝產能過剩問題，導致該公司計劃今年底將把部分 EUV 光刻機進行關機狀態，以便節省電費支出，TSMC 日前也回應了市場上針對關閉部分 EUV 光刻機的傳聞。 TSMC 方面表示，公司一切工作都是按照年度規劃，並依循計劃有效進行的，並且在不影響正常營運的前提下，進行例行維護與升級也是對光刻機的維護起到很好的作用。
但也有人不認同該做法的，就在上週一位來自產業鏈的消息人士手機晶片達人的爆料，由於 TSMC 在先進製程產能利用率出現了下滑，並且在評估之後得出下滑時間將會持續一段週期後，TSMC 決定計劃從年底開始，把部分 EUV 設備關機，這一做法是節省 EUV 設備巨大的耗電支出。
據了解，TSMC 目前擁有大約 80台 EUV 光刻機，並且大多數用於 7nm、5nm 及以下的先進工藝，據說今年9月份還會量產 3nm 工藝，這些都是都需要用到大量的 EUV 光刻機，然而隨著全球經濟不景氣，所以常用到的 PC、手機、顯示卡等產品都出現了疲軟期，在需求上也處於下滑狀態，那麼先進工藝生產的晶片勢必會受到影響。
相比之前的 DUV 光刻機，EUV 光刻機更先進，需要用到高能激光器，而且光線會多次折射導致損耗極大，而 EUV 光刻機的能源轉換效率只有0.02%，也就是說一台 EUV 機器工作一天，將會消耗3萬度電，是不是嚇人？雖說現在量產是可以達到 2%效率，但也意味著絕大多數電力都要消耗掉。
也就是說 TSMC 現在最大的隱憂之一就是缺電，由於一台 EUV 光刻機生產一天需要3萬度電左右，一年耗電大約1000萬度，2021年 TSMC 實際用電量已接近170億度，十足的電老虎，一旦停電，那麼對 TSMC 造成的損失幾乎不可估計。
