中芯國際正在測試由上海初創公司宇量昇生產的深紫外線（DUV）光刻機，該設備採用的是浸沒式技術，技術路線類似於 ASML 採用的技術。
一直以來，中芯國際高度依賴荷蘭半導體設備大廠 ASML 進口的 DUV 光刻機，但近年因美國的出口管制策略，導致只能獲得較舊設備，無法獲得最先進製程的技術。
據知情人士透露，中芯國際正在測試一台 28nm 的 DUV 設備，該設備可以通過多重曝光的方式進一步生產 7nm 晶片。
現在中芯國際正在嘗試將這類設備推向極限，用於生產更先進的 5nm 處理器，但這導致良率偏低，意味著現有設備無法再進一步製造更先進製程產品。
如果先進的 DUV 光刻機能實現國產化，將會是國內對於美國晶片出口管制的重大突破，有效降低對西方技術的依賴，提升日漸擴大的先進AI處理器產能。
有分析師表示：「如果測試成功，這將是中國企業的重要一步，未來可在此基礎上推進更先進的設備。」
