日本 Canon 推出尖端處理器製造的納米壓印設備，降低成本，為小型製造商提供新機會。
納米壓印技術（Nanoprinted lithography，NIL）以類似印刷的方式，通過一次壓印在晶圓上形成複雜電路圖，無需光學圖像投影。當前，ASML 的 EUV 光刻機壟斷 5nm 製程市場，價格高昂。對於更先進的 2nm 及以下製程，ASML 推出更貴的 High-NA EUV 光刻機，增加了尖端製程的成本。
Canon 的納米壓印技術為處理器製造商提供了一種替代 EUV 光刻機的低成本、高效的生產方式。 Canon 半導體設備業務部長岩本和德表示，通過改進光罩，該技術甚至可以生產 2nm 製程的處理器，這有望縮小 Canon 與 ASML 的技術差距。納米壓印設備的成本和製造成本都遠低於 EUV 光刻機，而且更易於引進，這將為小型製造商提供更多機會。
Canon CEO 御手洗富士夫此前曾表示，該公司的納米壓印設備的「價格將比 ASML 的 EUV 光刻機低一位數（即最少平 10%）」。
Canon 的納米壓印技術受到了廣泛關注，許多半導體廠商、大學和研究所都對其表示了濃厚的興趣，希望將其作為 EUV 設備的替代品。預計該技術將廣泛應用於 Flash memory、個人電腦用 DRAM 以及邏輯等多種半導體生產領域。
