聖彼得堡理工大學代表透露。該裝置綜合體包括用於無掩模納米光刻和等離子體化學蝕刻的裝置。據介紹，其中一種工具的成本為 500萬盧布（當前約HK$61萬），另一種工具的成本未知。
2023年3月，俄羅斯工貿部投資11億盧布（約 HK$1.3億）開發微電子生產光刻物料，尤其是光刻膠的生產。聖彼得堡理工大學研究團隊成功研發「國產光刻復合體」，可應用在蝕刻生產無掩模處理器，將有望「解決俄羅斯在微電子領域的技術主權問題」。這個裝置綜合體由用於無掩模納米光刻和等離子體化學蝕刻的裝置組成。據介紹，其中一種工具的成本為 500萬盧布（約HK$61萬），而另一種工具的成本尚未透露。
第一裝置可直接在基底上形成圖像，無需特殊掩模。與傳統光刻技術相比，這技術更經濟、快捷，傳統技術需要專門掩膜板。該裝置通過專業軟件自動控制，實現完全自動化。該綜合體發明的目的是「各種微電子裝置運行」所需的「納米結構」工藝分兩階段進行，首先使用基礎掩模光刻機，然後利用硅等離子化學蝕刻機。
第二種裝置將在第一階段創建的圖像基礎上進行，可直接形成納米結構或製作硅膜，如艦載超壓傳感器。
該項目的發起者向俄新社保證，利用這種裝置製作的硅膜「在可靠性和靈敏度方面超過了用液體或激光蝕刻方法製作的硅膜」，這是完全的俄羅斯產品。
早在 2022 年 10 月，俄羅斯科學院下諾夫哥羅德應用物理研究所宣佈開始類似的研究。
到現在為止，俄羅斯最多可以使用幾乎已經淘汰了20年的 65nm 的拓撲結構，不過俄羅斯現在正在建設 28nm 晶元工廠。
諾夫哥羅德應用物理研究所正努力縮小與世界其他國家的技術差距，他們的專家正在研發首款能生產 7nm 拓撲晶片的國產光刻機。然而，這仍需要數年時間，至少要到 2028 年才能開始全面運行。
