中國的一家科技公司對外公開了申請的「5納米芯片製造的直接蝕刻方法」專利。
該發明包含晶片設計及製造等方面。其專利的特殊之處在於，它無需使用 EUV 光刻機或 DUV 光刻機，也無需經過光刻過程，而是可以用蝕刻來製造 5nm 晶片。引發不少網友關注。
這項專利由成立於2019年3月13日的「上海創消新技術發展有限公司」申請。該公司註冊資本為50萬元人民幣，總部位於上海市青浦區。其法定代表人劉明革兼任了上海敏革化學科技有限公司的股東和監事，持有上海創消新技術發展有限公司的股份佔85%，另外15%的股份由「劉佳慧」持有，該公司現在沒有大公司佔有其股份。
根據工商信息，上海創消新技術發展有限公司的註冊資本覆蓋了多個方面，包括機械技術、電子技術、化工技術、建築技術以及生物技術領域內的技術開發、技術轉讓、技術服務和技術諮詢。值得注意的是，這家公司的業務範圍並未涵蓋晶片相關的內容，例如晶片設計和晶片製造。
