正膠著於以烏克蘭交戰的俄羅斯，近日放出豪言將要製造最新光刻機。這也是被美國全方位晶片制裁後，俄羅斯不得不做出改變了，根據俄羅斯下諾夫哥羅德策略發展機構的最新公文披露，俄羅斯國家科學院下諾夫哥羅德應用物理研究所 (IPF RAS)目前已經在開發俄羅斯首套半導體光刻設備，同時還對外誇下海口：首套光刻機將能夠使用 7nm 生產晶片，預計將在 2028年全面投產。
不過想研究出來並非易事，對此大多數人對此保持懷疑態度，因為全球僅一家公司 ASML 有能力生產最先進 EUV 級別。而據俄羅斯研究院介紹，他們將打算在六年內製作出光刻機的工業原型，而首當其衝的任務就是要在 2024 年開發一台 alpha 機器。這一階段的重點不在於其工作或解決的高速性，而在於所有系統的全面性。
接著到 2026年，經過長時間的研發臨時 alpha 應該被 Beta 所取代。這意味著屆時所有系統都將得到改進和優化，解析度也將得到大大提升，進一步實現生產合格率，如真能實現，那麼將來的許多操作都可以實現機械自動化。該階段最重要的是將其集成到實際的技術流程中，再通過「拉起」適合其他生產階段的設備對其進行調試。
第三步也就是最後一步，同樣也作為最重要的核心。那就是將為光刻機帶來更強的光源、改進的定位和饋送系統，從而讓一套光刻系統能夠快速準確地工作。
目前已知的是，俄羅斯國內已經可以生產 65nm 制程的晶片，但就目前而已言還遠遠不夠，不管是民生需求還是軍用，還遠達不到標準。因此該國宣佈了一項國家計劃，他們希望在 2030年開發 28nm 制程，同時希望可以靠著對外國晶片進行逆向工程，並培養當地半導體人才。
雖然因為俄烏戰爭導致俄羅斯失去了頂尖晶片的供給，但是俄羅斯科學院納米結構研究所副所長表示，雖然全球光刻機領導者 ASML 在20世紀以來一直致力於 EUV 光刻機，使得世界頂尖半導體廠商保持極高的生產效率。但就國內而言並不需要，他解釋稱：目前我們只需要根據俄羅斯國內的需求向前推進即可。
不過，從其他外媒的評價來看，俄羅斯的想法似乎太過天真，因為晶片製造是最為核心的部份，所以想在 6 年內僅憑自己國內實力研發出可媲美 ASML 全球十年積澱的光刻技術說出去也不會有人相信，並且生產高效率晶片且並非光靠光刻機就可生產出晶片來，同時還需要許多外圍設備，而且就連 ASML 也並非以一直之力能夠製造出來的，同樣也需要從許多國家中進口來，所以綜合以上條件都在說明俄羅斯並不滿足獨立生產這些設備的條件。
讓人意想不到的是，下諾夫哥羅德代表團居然還向外媒展示了未來光刻設備的演示樣品。該套系統完全基於下諾夫哥羅德的 IAP RAS 開發、製造和安裝。不過他們自己也提到，這甚至不是設備原型，而是「原型的原型」。
代表團說道：儘管這套演示設備不能解決如今面臨的實際工業問題，但它可以讓科學家有機會驗證關鍵技術的可行性，並測試進一步工作所需的其他關鍵假設。
