眾所周知晶片技術的越來越先進,那麼伴隨的耗電量也肯定是會不斷增加,而 TSMC 有著最大、最強以及技術最先進的的 EUV 光刻機,近年來也包攬了全球眾多晶片代工訂單,但有消息指出要求晶片精度更高的訂單越來越多,產能反而不夠用了。有消息稱 TSMC 由於先進工藝產能過剩問題,導致該公司計劃今年底將把部分 EUV 光刻機進行關機狀態,以便節省電費支出,TSMC 日前也回應了市場上針對關閉部分 EUV 光刻機的傳聞。 TSMC 方面表示,公司一切工作都是按照年度規劃,並依循計劃有效進行的,並且在不影響正常營運的前提下,進行例行維護與升級也是對光刻機的維護起到很好的作用。

但也有人不認同該做法的,就在上週一位來自產業鏈的消息人士手機晶片達人的爆料,由於 TSMC 在先進製程產能利用率出現了下滑,並且在評估之後得出下滑時間將會持續一段週期後,TSMC 決定計劃從年底開始,把部分 EUV 設備關機,這一做法是節省 EUV 設備巨大的耗電支出。

據了解,TSMC 目前擁有大約 80台 EUV 光刻機,並且大多數用於 7nm、5nm 及以下的先進工藝,據說今年9月份還會量產 3nm 工藝,這些都是都需要用到大量的 EUV 光刻機,然而隨著全球經濟不景氣,所以常用到的 PC、手機、顯示卡等產品都出現了疲軟期,在需求上也處於下滑狀態,那麼先進工藝生產的晶片勢必會受到影響。

相比之前的 DUV 光刻機,EUV 光刻機更先進,需要用到高能激光器,而且光線會多次折射導致損耗極大,而 EUV 光刻機的能源轉換效率只有0.02%,也就是說一台 EUV 機器工作一天,將會消耗3萬度電,是不是嚇人?雖說現在量產是可以達到 2%效率,但也意味著絕大多數電力都要消耗掉。

也就是說 TSMC 現在最大的隱憂之一就是缺電,由於一台 EUV 光刻機生產一天需要3萬度電左右,一年耗電大約1000萬度,2021年 TSMC 實際用電量已接近170億度,十足的電老虎,一旦停電,那麼對 TSMC 造成的損失幾乎不可估計。

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